Patogènesi (desenvolupament de malalties)
Periimplantitis és una inflamació progressiva del rodament ossi d’un implant dental amb pèrdua òssia perimplantària. La inflamació reversible dels teixits tous només és la mucositis periimplantària (inflamació de l’oral mucosa).
La malaltia és causada per anaeròbics mixtos gèrmens. Periodontopatogènic gèrmens (gèrmens que causen malalties al periodonci) es poden transferir de les dents restants a implants. Persistència de periodontopatògens gèrmens també està present en pacients edentats.
El factor principal per al desenvolupament i la progressió de periimplantitis és la colonització microbiana de les superfícies de l’implant subgingival. Molt més biofilm (placa, placa bacteriana) es diposita sobre superfícies rugoses que sobre superfícies llises.
El factors de risc esmentats a continuació tenen un efecte favorable sobre el curs de la malaltia.
Etiologia (causes)
Causes biogràfiques
- Edat de la vida: augment de l'edat
Causes conductuals
- Consum d’estimulants
- Tabac (de fumar) - es considera un factor de risc important, com en el desenvolupament de periodontitis (inflamació del periodonci / parodont).
- Higiene bucal
- placa acumulació (acumulació de placa bacteriana) a causa d’una higiene no adaptada a l’augment dels requeriments d’un implant.
Causes relacionades amb les malalties
- Infecció bacteriana
- Bruxisme: trituració i premsat
- Crònic estrès - afavoreix les citocines proinflamatòries.
- Diabetis mellitus
- Immunosupressió
- Osteoporosi (pèrdua òssia)
- Periodontitis
- A les dents restants
- En el pacient edentat com a condició preexistent
- Saliva
- Composition
- Cabal
- Viscositat
Medicació
- Bifosfonats (les drogues solia tractar osteoporosi).
- Medicaments que inhibeixen la salivació (medicaments que inhibeixen la salivació).
Raigs X.
- Radiació (radioteràpia) - irradiacions a la cap i coll àrea.
operacions
- Danys intraoperatoris al llit implantari
- Traumatisme tèrmic (lesions relacionades amb la calor).
- Trauma mecànic
- Col·locació intraoperatòria (“durant un procediment quirúrgic”) de l’implant.
- Deshiscència de ferides (separació induïda per ferides d’estructures de teixits relacionades) després de l’augment (procediment per acumular defectes de substàncies òssies mitjançant empelts ossis / materials de recanvi).
Altres causes
- Factors específics de l’implant
- Poca capacitat higiènica de l’implant
- Superestructura defectuosa
- Sobrecàrrega oclusal (a la superfície oclusal).
- Superfícies implantades amb textura (rugoses) exposades després de la reabsorció òssia periimplantària fisiològica.
- Pilar afluixat
- Microfractures (petites fissures i esquerdes a l'os) massa).
- Sobrecàrrega durant la fase de curació
- Sobrecàrrega després de la fase de curació
- Excés de ciment de sedimentació
